半導體液氮真空管道用于MBE工藝以及半導體組裝和測試設施中集成芯片（IC）的冷測試，**有效地傳輸液氮．半導體液氮真空管道可廣泛用于航天業、機械制造業、食品加工、生物、畜牧業、科研單位等行業的超低溫介質（液氮、液氬、液氧、LNG）輸送。
半導體液氮真空管道技術參數：
半導體液氮真空管道
管道
規格（mm）
通徑
DN15
DN20
DN25
DN32
DN40
DN50
DN65
DN80
DN100
DN125
DN150
內管
Φ20*2
Φ25*2
Φ32*3
Φ38*3
Φ45*3
Φ57*3
Φ76
Φ89
Φ108
Φ133
Φ159
外管
Φ76*2
Φ89*2
Φ108*2
Φ114*3
Φ168
Φ219
Φ245
工作壓力
根據用戶需要設計
設計溫度
-196℃/-270℃
工作介質
LO2、LN2 、LAr 、LH2 、LNG
內、外管材質
06Cr19Ni10、SUS304 (可根據用戶要求選擇內管材質）
結構形式
高真空多層絕熱
夾層壓力
＜0.004Pa
管道真空漏率
＜2*10-10Pa L/S
半導體液氮真空管道主要特點：
1、結構設計獨特、合理，采用合理的補償結構，性能穩定、**可靠。管道端部絕熱支撐采用了平衡強度設計，確保了絕熱與強度的雙重可靠性。
2、結構合理，不冒汗、蒸發率低。本公司在引進日本先進的高真空多層絕熱容器制造技術的基礎上，不斷優化設計、制造工藝，形成了獨特的真空管屏蔽技術。
3、采用品質優良的絕熱材料。為實現真空管良好的保溫性和抗輻射，本公司采用國外生產的超細玻纖包扎層和超薄屏蔽材料。為減緩真空管夾層真空的衰減，設置了高效吸附囊，選用美國聯碳的吸附材料。
4、外形美觀、分段制作，安裝、維護方便、使用壽命長。外管、彎頭、外管波紋補償器全部采用拋光不銹鋼制作。真空管道之間采用真空法蘭連接，安裝、拆卸、檢修方便。
5、真空管冷損更小得到了保證。小于1.33×10-3Pa的封結真空度；低于2×10-13Pa·m3/s的管道漏率。
6、對材料的清潔和干燥按氧氣介質進行了嚴格的處理和控制。在材料清潔工藝中引用了美國Praxair公司的GC-38和GS-40等相關標準。因此本產品用于食品、、冶金、化工、機械、和國防、科研等高要求行業。
7、確保產品質量穩定可靠。采用日本高真空抽空、包扎技術，嚴格按照有關規程對真空管進行加熱—加熱粗抽—加熱高真空抽—冷高真空抽—封結等工藝程序。采用全自動的TK-300型高真空油擴散泵設備。
8、克服了一些廠家轉角采用45度對接結構的缺點：應力集中及外形不美。管道轉角處采用R標準彎頭，獨特的轉角處包扎、組焊工藝。